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    電子半導體超凈高純(VLSD) 試劑用純水要求

    文章出處:網絡 人氣:發表時間:2022-11-10

    電子半導體超凈高純(VLSD) 試劑是大規模集成電路(IC) 及高檔半導體器件制造過程的專用化學品,主要用于硅單晶片的清洗、光刻、腐蝕工序中,它的純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能、可靠性都有著重要的影響。

    隨著IC集成度的不斷提高,對超凈高純試劑的質量指標提出了更高要求。國際上半導體工業協會(Semiconductor Industry Association) 新近推出Semi C7 (適合0.8~1.2μm 工藝技術) 和Semi C8 (適合于0.2~0.6μm 工藝技術) 級別試劑質量標準。

    中國的超凈高純試劑有低塵高純級、MOS級、BV-I 級、BV-I級、BV-皿級(相當于Semi C7 質量標準)。

    水質標準

    1、ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》

    2、歐盟電子級超純水標準

    3、中國電子工業國家標準GB/T11446.1-1997

    技術要求

    半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水,基板晶圓片檢測清洗用水,中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗,后段檢測封裝清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生長用水,中段主要在曝光、顯影、去光阻清洗用水,后段檢測封裝用水。同時,半導體行業對TOC的要求較高。

    此文關鍵詞:電子半導體超凈高純(VLSD) 試劑用純水要求
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